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LPCVD立式炉管设备
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半导体集成电路制造的重要设备之一，主要用于POLY, D-POLY, SiN,LP-TEOS；立式LPCVD采用钟罩式结构，设计嵌套腔体机械手传片组件、舟旋转组件，具有占地面积小、成膜均匀性高、工艺稳定性高等优点。
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