LPCVD立式炉

所属分类：

CVD设备

半导体工艺设备

立式LPCVD

概要：

半导体集成电路制造的重要设备之一，主要用于POLY, D-POLY, SiN,LP-TEOS；立式LPCVD采用钟罩式结构，设计嵌套腔体机械手传片组件、舟旋转组件，具有占地面积小、成膜均匀性高、工艺稳定性高等优点。

关键词：

LPCVD立式炉管设备

LPCVD立式炉

产品概述/Product Introduction：

♦ 半导体集成电路制造的重要设备之一，主要用于POLY, D-POLY, SiN,LP-TEOS。

LPCVD equipment is one of the important equipments for semiconductor integrated circuit manufacturing,which is mainly used for the growth of LP-POLY,LP-DPOLY,LP-SiN，LP-TEOS thin films.

♦ 立式LPCVD采用钟罩式结构，设计嵌套腔体机械手传片组件、舟旋转组件，具有占地面积小、成膜均匀性高、工艺稳定性高等优点。

Vertical LPCVD adopts bell jar structure, and designs nested cavity manipulator film transmission assembly and boat rotation assembly, which has the advantages of small occupied area, high film formation uniformity and high process stability.

产品特点/Product Characteristics：

♦ 全自动传送，定位精准，稳定可靠

Fully automatic transmission, accurate positioning, stability and reliabilityt

♦ 高洁净度工艺环境，有效控制污染

High cleanliness process environment, effective pollution control

技术指标/Technical Indicators：

♦ 晶片尺寸：6/8/12英寸 Wafer size: 6/8/12 inches

♦ 制程温度范围：300°C-1000°C Process temperature range: 300°C-1000°C

♦ 批次片数: 100-150片 Batch capacity: 100-150 pcs

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无

LPCVD卧式炉