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PVT法长晶炉——感应炉


所属分类:

化合物晶体设备

PVT法单晶生长设备


概要:

适用领域:单晶生长 Relevant Industries:  Single Crystal Growth 适用材料:  Si、AIN Suitable for Processing:  SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圆尺寸:  12/8/6/4英寸,8英寸多坩埚 Wafer Size: 12/8/6/4 inch, 8 inch Multi-crucibles


关键词:

PVT法长晶炉——感应炉



PVT法长晶炉——感应炉


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