产品分类
HVPE外延炉——立式
所属分类：
Ga2O3单晶生长及外延设备
HVPE外延炉
概要：
本设备主要用于氧化镓（Ga2O3）、氮化铝（AIN）等外延生长。
关键词：
HVPE外延炉——立式
HVPE外延炉——立式
产品概述/Product Introduction：
本设备主要用于氧化镓（Ga2O3）、氮化铝（AIN）等外延生长。
This device is mainly used for epitaxial growth of gallium oxide (Ga2O3), aluminum nitride (AIN), and other materials.
提供2英寸验证工艺
Provide 2 inches validation process.
产品特点/Product Characteristics：
♦衬底:2-8英寸
Substrate size :2-8 inches
♦数量:1片/多片
Quantity:1pcs/multiple pcs
♦控温精度:精度高，温区稳定性好
Temperature control precision : High temperature control precision and good statlity in temperature zone.
♦结构:立式/卧式可选，满足多种尺寸衬底多种操作方式需要
Structure: Vtica/horizontal structual is optional,can meet theneeds of customerswith various sizes ofsubstrates and variousoperation modes.
♦安全保护功能:硬件保护+软件互锁
Security protection: Hardware protection+software interlock.
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导模法长晶炉
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