立式 丨氧化/扩散/退火/LPCVD/ALD设备
所属分类：
产品展示
半导体芯片设备
立式 氧化/扩散/退火/LPCVD/ALD设备
概要：
♦适用领域：集成电路、先进封装 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ♦适用材料：Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ♦晶圆尺寸：12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch
关键词：
立式炉
立式 丨氧化/扩散/退火/LPCVD/ALD设备
产品应用/Product Applications：
♦适用领域：集成电路、先进封装
Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging
♦适用材料：Si
Suitable for Processing: Silicon (Si)
♦晶圆尺寸：12/8 英寸
Wafer Size: 12/8 inch
技术指标/Technical Parameters：
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