产品分类
立式 丨氧化/扩散/退火/LPCVD/ALD设备
所属分类：
产品展示
半导体芯片设备
立式炉管设备
ALD设备
概要：
♦适用领域：集成电路、先进封装 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ♦适用材料：Si Suitable for Processing: Silicon (Si) ♦晶圆尺寸：12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch ♦适用工艺：氮化硅(SiN)、二氧化硅(SiO2)等膜层的沉积 Silicon Nitride (SiN)、 Silicon Dioxide（SiO2）, and other film layers
关键词：
卧式炉
立式 丨氧化/扩散/退火/LPCVD/ALD设备
产品应用/Product Applications：
♦适用领域：集成电路、先进封装
Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging
♦适用材料：Si
Suitable for Processing: Silicon (Si)
♦晶圆尺寸：12/8 英寸
Wafer Size: 12/8 inch
♦适用工艺：氮化硅(SiN)、二氧化硅(SiO2)等膜层的沉积
Silicon Nitride (SiN)、 Silicon Dioxide（SiO2）, and other film layers
技术指标/Technical Indicators：
♦制程温度范围：100°C-350°C
Process Temperature Range：100°C-350°C
♦批次片数：50-100片
Batch Capacity：50-100 pcs
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