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PVT法长晶炉——感应炉
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适用领域：单晶生长 Relevant Industries: Single Crystal Growth 适用材料: Si、AIN Suitable for Processing: SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圆尺寸: 12/8/6/4英寸,8英寸多坩埚 Wafer Size: 12/8/6/4 inch, 8 inch Multi-crucibles
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