liguan1218@163.com
15562450816
中文 | English
网站首页
关于我们
公司简介
企业文化
专利证书
产品展示
半导体工艺设备
化合物半导体设备
新闻资讯
公司新闻
行业资讯
合作伙伴
工程团队
招贤纳士
管理理念
加入力冠
联系我们
English
关键词:
坩埚下降长晶炉
本设备主要用于砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等化合物晶体生长。设备由机架、安瓿支撑机构、加热器和控制系统组成,能够实现安瓿移动和转动的精确控制。
怎么才能选择一款适合您的?
让我们协助您!
我们的专家尽快与您联系,满足您更多需求。
最新产品
LPCVD立式炉管设备
LPCVD卧式炉管设备
SiC高温退火炉
SiC高温氧化炉
卧式炉
立式炉
MPCVD长晶炉
坩埚下降法(vb)长晶炉
HVPE外延炉——卧式
HVPE外延炉——立式
最新新闻
力冠动态 | 力冠亮相第八届国际碳材料大会
力冠动态 | 山东力冠亮相第五届亚太碳化硅及相关材料国际会议
力冠动态 | 省委社会工作部到山东力冠参观调研
力冠动态 | 济南市工业和信息化局党组书记、局长魏斌一行人到山东力冠参观考察
全省“绿色先行”媒体采访走进山东力冠参观考察
力冠:亮相第四届人工晶体材料青年学术会议