山东力冠微电子装备

产品展示

MPCVD

关键词：

产品 新闻 下载
MPCVD设备

MPCVD设备

♦ 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD) , 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量的金刚石单晶和多晶薄膜

关键词：

MPCVD

SiC高温氧化设备

SiC高温氧化设备

专用于硅-碳化合物(SiC）氧化处理，可实现SiC片高温环境下完成高温氧化工艺。氧化工艺使用O2,O2/H2，N2O，NO是最安全的毒性气体氧化炉，设备适用于SiC基功率器件制造中的高温氧化工艺环节，加热腔与工艺腔独立密闭设计，提供工艺腔的洁净度。

关键词：

MPCVD

MPCVD设备

MPCVD设备

♦ 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD) , 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量的金刚石单晶和多晶薄膜

关键词：

MPCVD

怎么才能选择一款适合您的？

让我们协助您！

我们的专家尽快与您联系，满足您更多需求。

提交

在线留言

提交

产品展示

扩散/氧化/退火

CVD设备

SiC单晶生长设备

GaN单晶生长设备

Ga2O3单晶生长设备

金刚石单晶生长设备

 

联系我们

地址：济南市槐荫区济南宽禁带半导体产业园

电话：15562450816

邮箱：liguan1218@163.com

Copyright © 山东力冠微电子装备有限公司

网站建设：中企动力 济南二分  |  标签  |  营业执照  |  城市分站