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HVPE外延炉——立式
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适用领域：单晶生长、外延生长 Relevant Industries: Single Crystal Growth, Epitaxial Growth 适用材料: GaN（单晶）、AIN（单晶/外延）、Ga2O3（外延）、GaAs（外延） Suitable for Processing: GaN (single crystal),AlN (single crystal / epitaxial)Ga2O3 (epitaxial), GaAs (epitaxial) 晶圆尺寸: 12/8/6/4英寸 Wafer Size: 12/8/6/4 inch
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