产品分类
InP长晶设备
所属分类：
InP长晶设备
概要：
产品应用/Product Applications： ♦适用领域：单晶生长 Relevant Industries:Single Crystal Growth ♦适用材料：Ga2O3、GaAs等 Suitable for Processing: Ga2O3 (Gallium Oxide),GaAS(Gallium Arsenide), etc. ♦晶圆尺寸：12/8/6英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch 技术指标/Technical Indicators： ♦制程温度范围：2200°C Process Temperature Range：2200°C ♦加热方式：感应/电阻 Heating Method:Induction/Resistance
关键词：
InP长晶设备
产品应用/Product Applications：
♦适用领域：单晶生长
Relevant Industries:Single Crystal Growth
♦适用材料：Ga2O3、GaAs等
Suitable for Processing: Ga2O3 (Gallium Oxide),GaAS(Gallium Arsenide), etc.
♦晶圆尺寸：12/8/6英寸
Wafer Size: 12/8/6 inch
技术指标/Technical Indicators：
♦制程温度范围：2200°C
Process Temperature Range：2200°C
♦加热方式：感应/电阻
Heating Method:Induction/Resistance
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