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坩埚下降设备


所属分类:

第二代半导体工艺设备


概要:

◆ 主要用于4-8英寸砷化镓、磷化铟等化合物单晶生长 ◆ 设备由机架、安部支撑机构、加热器和控制系统组成 ◆ 能够实现安移动和转动的精确控制


关键词:

坩埚下降炉



坩埚下降设备


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