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晶体提拉

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HVPE长晶炉——立式


本设备主要用于氮化镓(GaN)单晶生长;还可用于氧化镓(Ga2O3)、氮化铝(AIN)、 磷化铟(InP)、砷化镓(GaAs)等外延生长。

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晶体提拉设备


◆ 直拉法晶体生长专用设备,可实现在高压、真空和保护气氛下直拉生长晶体 ◆ 采用自动称重结构,在保证晶体品质的前提下实现了直拉晶体的自动生长过程

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