山东力冠微电子装备

产品展示


LPCVD (立式/卧式)

关键词:

产品 新闻 下载

LPCVD 卧式炉管设备


LPCVD设备是半导体集成电路制造的重要设备之一,主要用于Poly, D/P Poly, SiN,SiO2薄膜的生长。

LPCVD 卧式


♦ LPCVD设备是半导体集成电路制造的重要设备之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生长,它是将原材料气体(或者液态源气化)用热能激活发生化学反应而在基片表面生成固体薄膜,LPCVD过程是在低压下进行的,由于气压低,气体分子平均自由程大,使生长的薄膜均匀性好,此外基片可以竖放使得设备装片量大,特别适用于工业化生产

LPCVD 立式炉管设备


♦ LPCVD设备是半导体集成电路制造的重要设备之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生长,它是将原材料气体(或者液态源气化)用热能激活发生化学反应而在基片表面生成固体薄膜,LPCVD过程是在低压下进行的,由于气压低,气体分子平均自由程大,使生长的薄膜均匀性好,此外基片可以竖放使得设备装片量大,特别适用于工业化生产

怎么才能选择一款适合您的?

让我们协助您!

我们的专家尽快与您联系,满足您更多需求。