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液相法长晶炉
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适用领域：单晶生长、EFG、LPE Application Fields: Single Crystal Growth, Edge-defined Film-fed Growth (EFG), Liquid Phase Epitaxy (LPE) 适用材料: SiC、Ga2O3、YAG、LYSO、LT/LN、GGG、YAP等晶体 Suitable for Processing: SiC (Silicon Carbide), Ga2O3 (Gallium Oxide), YAG (Yttrium Aluminum Garnet), LYSO (Lutetium Yttrium Orthosilicate), LT/LN (Lithium Tantalate / Lithium Niobate), GGG (Gadolinium Gallium Garnet), YAP (Yttrium Aluminum Perovskite) and other crystals 晶圆尺寸: 12/8/6/4英寸 Wafer Size: 12/8/6/4 inch
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