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  • 产品名称: 微下降晶体生长设备
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好友推荐

产品简介:

主要用于小尺寸晶体使用,是探索新晶体材料的新型专用设备。

采用中频或电阻加热,可以使用铂金、铱金、石墨、石英等坩埚

高真空或气体保护,高精度微下降和旋转机构

晶体直径数字图像监控

产品特点:

工业计算机控制系统(WINDOWS系统界面,操作方便简洁)

关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性

细小直径的晶体生长,直径范围1-10mm,长度500mm

晶体生长均匀性好、重复性高

主要技术指标:

工作温度:200~2400℃

坩埚移动最大行程:600mm

拉速:0.05-30mm/min

真空度:按照客户要求

气氛控制:保护气体

实时观察:晶体直径CCD成像及显示

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