产品搜索
  • 关键词:
  • 产品分类:
  •  
您现在的位置:首页 >> 太阳能电池设备 >> 管式PECVD
  • 产品名称: 管式PECVD
  • 浏览次数: 12243

好友推荐

产品简介:
本设备采用管式卧式热壁型,在真空高温情况下,通过中频放电的方式在硅表面淀积氮化硅减反射钝化膜,同时可据客户需求实现氮氧化硅、二氧化硅、氮化硅等多膜工艺。
产品特点:
方式:软着陆方式。
1.该设备拥有超长恒温区、高精度温度控制等多项技术,整体性能得到很大的提高。
2.自动压力闭环控制技术:采用世界一流的压控检测及执行系统,精确快速控制反应管压力,真正实现压力闭环控制。
3.等离子体放电异常检测技术:放电异常提示处理,提高等离子场均匀性,稳定成膜质量,进一步缩小减反射膜色差。
4.各种异常报警及异常报警的跳转保护功能
5.推拉舟防撞舟技术:防止舟杆误撞造成的石墨舟、反应管破碎危险。
6.净化台洁净度:100级(10000级厂房)。
7.自动化程度:采用一体化工控机+模块化工艺控制组态软件:提高设备UP-TIME和可靠性、缩小体积,可独立运行,实现真正集散式控制。即使上位机故障,工艺过程也不受影响。
工艺过程由工业计算机全自动控制,直接在触摸屏上操作。
8.具有自动斜率升降温功能。
9.送取片方式:悬臂软着陆式双杆推拉舟。
主要技术指标:
操作方式:右手(或左手)
设备管数:2~4管/台
单管装片量:252片/管(125mm×125mm)
            240片/管(156mm×156mm)
控温方式:5点SPIKE控制
工作温度范围:150~550℃
温度稳定性:≤±1℃
恒温区长度:1200mm
恒温区精度(静态闭管测试):≤±1℃
升温时间:从室温到400℃<25min
升温速率:≥15℃/min 
均匀性:≤±3%
压力控制:闭环自动控制
淀积压力范围:100-300Pa(连续可调)
系统极限真空:≤2Pa
恢复真空时间:AP-10Pa<10min
漏气率:≤2Pa/3min
真空泵:复合真空机组
RF电源:40KHZ,可程序控制 
工艺气体:NH3,N2,SiH4(可预留N20,以便升级多膜工艺)

咨询留言
 
留言内容:
* 已输入字符:0
小于等于500字符
您的邮箱:
 
示例:example@mail.com
手机号码:
 
由数字、“+”、中横杠“-”组成,最大允许20个字符
联系电话:
 
小于等于32个字符(包含0-9、-、(、)、顿号)
联系地址:
 
验证码: