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  • 产品名称: 氧化/扩散炉
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产品简介:
设备应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件
适用2~8英寸硅片的扩散、氧化、退火、合金等工艺
产品特点:
关键件全部采用进口件,具有高可靠性。
采用高可靠性工业计算机,对炉温、阀门、送料舟的前进、后退、停止进行全自动控制,全部工艺过程实现自动化,具有高可靠性及抗干扰能力。
具有友好的人机界面,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态。
具有多种工艺管路,可供用户方便选择。
具有多种报警功能及安全保护功能。
具有强大的软件功能,配有故障自诊断软件,可大大节省维修时间。
恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度(可选择)
主要技术指标:
结构形式:立式/水平热壁式
可配工艺管外径:2~8英寸
工作温度范围:400~1300℃
恒温区长度及精度:300~1250mm/±0.5℃ (800~1300℃)
单点温度稳定性:800~1300℃ ±0.5℃/24h
最大可控升温速度:15℃/min
最大降温速度:5℃/min
气源供给:
液态/固态源扩散
干、湿氧化及氢氧合成氧化
退火及合金工艺
微控或程控方式
根据用户要求配置气路

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