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  • 产品名称: 氧化物MOCVD
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产品简介:
用于YBCO、REBCO等带材超导层的单面或是双面的外延生长。
产品特点:
由生长室、气体控制系统、真空及压力控制系统、气源/气柜系统、计算机控制系统等组成。
系统各工艺参数均可由计算机自动控制(WINDOWS界面)
主要技术指标:
工艺片规格:10-100MM
反应腔温度:1200℃
压力控制:0~800Torr连续可调
XRD离线生长监测系统
反应气体:氧气
携带气体/载气:氩气
MO源:钇、钡、铜等
MO源温度:300度

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